日前，国内半导体设备公司至纯科技在互动平台表示，目前至纯科技28纳米节点全部湿法工艺设备已认证完毕。

  除了28nm工艺节点之外，上海证券报告中指出，至纯科技14nm及7nm工艺预计2022年可供客户验证，客户包括中芯国际、华虹集团、长鑫存储、华为、台湾力晶等行业领先者。

  2020年至纯科技湿法工艺设备出货量超过30台，新增订单5.3亿元，增长211.8%。

  “湿法工艺设备”在晶圆制造产线主要用于有效清洗晶圆表面的颗粒、金属离子以及一些氧化层等等，在最大程度上去除晶圆上的杂质。一般的清洗原理主要分为干式以及湿式两种，由于湿式的整体工作效率更好，因此国内超过百分90%的产线均采用湿法设备。

  至纯科技表示，国内目前有三家在湿法工艺设备端提供中高阶湿法制程设备，分别是至纯科技、北方华创和盛美半导体，国内厂商的市场占比在逐年上升中。

  同时，国内大型晶圆厂的新fab已经陆续批量采购本土厂商的刻蚀、清洗等工艺设备。

  据招标网统计，2020年长江存储公开采招标设备1512台，其中北方华创合计中标50台，包括成膜设备4台，刻蚀设备12台，退火设备30台，氧化设备1台，炉管1台；盛美半导体共计中标11台清洗设备。

  2020年华虹无锡12寸厂合计采购267台半导体设备，其中北方华创中标线台设备，盛美半导体中标15台清洗设备。

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